• 打印
  • 收藏
收藏成功
分享

显微组织对Si3N4陶瓷基板热导率的影响


打开文本图片集

摘要:采用電子背散射衍射、晶界面分布五参数分析和激光闪射等方法研究了国外生产的3种商用Si3N4陶瓷基板的显微组织和热导率。结果表明,烧结助剂含量较低、平均晶粒尺寸较大且{h k -(h+k) 0}∥ND丝织构较强的基板,ND为基板板面法向,其面内热导率较高;反之亦然。3种Si3N4陶瓷基板的晶界取向差分布虽总体符合随机分布,但在取向差转角为180°位置明显偏离随机分布,这部分晶界的旋转轴以〈1 1 -2 0〉和〈1 0 -1 0〉为主,分别为∑3和∑2晶界,其晶界面分布和晶界界面匹配在3种基板中存在明显差异,但是由于这类晶界占总晶界的比例在3种基板中均不超过0.5%,尚不能对热导率产生明显影响。(剩余8286字)

网站仅支持在线阅读(不支持PDF下载),如需保存文章,可以选择【打印】保存。

畅销排行榜
monitor